2026年哈工大光刻机技术最新进展：120W 13.5nm

哈工大在光刻机领域的最新进展集中于EUV 光刻核心光源与精密测量 / 工件台技术，以 DPP（放电等离子体）路线突破 13.5nm 波长光源瓶颈，2025 年多项指标达实用级并推进工程化，同时在